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PLEASANTON, CA, 2013年8月12日 - (亞太商訊) - Rolith公司是高級納米設備開發的領導者，日前宣布成功展示了採用破壞性毫微光刻方法（滾動掩模光刻– RML(TM)）的金屬網格電極技術。
我們看到用於消費電子市場的觸摸顯示屏出現了爆炸性增長。到目前為止，ITO（銦鈦氧化物）材料是用於透明電極的標準解決方案。除了成本過高和材料供應有限之外，它還存在其他問題：這種材料的高反射率降低了對比率、光學性質極快降級至50 Ω/☐以下，從而限制了使用ITO生產而不使性能降級的顯示屏大小。
ITO的唯一可行替代材料（和大型觸摸顯示屏的唯一解決方案）是金屬線網格。對金屬線網格的要求是人眼無法看到，這意味著線寬要小於2微米。此外，窄線有助於應對摩爾效應，金屬線網格的疊加和顯示屏的像素結構會造成這一效應。
Rolith公司採用了名為滾動掩模光刻(RML(TM)) 的專利毫微光刻技術，以製造用於大型基材的透明金屬線網格電極。 RML基於近場連續光學光刻，使用圓柱相掩模進行操作。
玻璃基材上的透明金屬電極以亞微米寬納米線的形式製造，以數十微米的間隔光刻到規則的2維網格圖案，厚度為幾百毫微米。經過檢測，人眼無法看到此類金屬結構，極為透明（超過94%的傳遞），霧度極低(~2%)，同時電阻率低(<14 Ohm/☐)。這組參數使得Rolith技術領先於ITO替代技術的所有主要競爭技術。
第2代RML工具能夠製造最多1 m長的基材。今年早些時候製造的工具已被用於展示這一技術。
“Rolith僅在幾個月前推出其透明金屬網格電極應用開發，我們對目前達到的結果感到非常興奮。我們相信，我們的突破性技術將為移動設備和大格式顯示屏、監視器和電視帶來經濟高效的高質量觸摸屏。目前，Rolith正與一些觸摸顯示屏製造商討論有關合作事項，預計在未來1年內將技術商業化。我們的路線圖還包括於2014-2015年將這一技術用於柔性基材。”公司創始人兼首席執行官Boris Kobri博士表示。他補充道：“Rolith將在國際觸控面板暨光學膜展會（“Touch Taiwan 2013”）（展台是N126）和2013年美國印刷電子展覽會（展台是AA18）上展出其突破性技術。”
關於 Rolith 公司
Rolith 公司運用獨有的納米光刻技術，為家用電子產品、太陽能市場和綠色建築市場生產高級納米結構產品。 Rolith 由Boris Kobrin 博士、Mark Brongersma 教授以及Julian Zegelman 及教授於2008年創立，目前公司位於加州普萊桑頓。公司在納米光刻、物質沉積和蝕刻方法以及納米光電子設備領域持有全面的專利組合。 Rolith 的戰略合作夥伴包括SUSS MicroTec AG 和Asahi Glass Company Ltd.。公司當前的投資者包括Draper Fisher Jurvetson 的附屬基金DFJ VTB Capital Aurora（由VTB Capital 負責管理），以及Asahi Glass Group 的附屬風投公司AGC America 。 www.rolith.com
媒體聯繫
EASTWEST PR for Rolith, Inc.(ASIA)
Melinda Ilagan / Grace Yu
rolith@eastwestpr.com
+65-6222-0306
Rolith 公司
Boris Kobrin 博士
創始人兼首席執行官
info@rolith.com
+1-925-548-6064
Topic: Press release summary
Source: Rolith, Inc.
Sectors: Electronics, Science & Research, Optoelectronics
https://www.acnnewswire.com
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